田凤彬博士的的IEEE TED文章发表
18.11.2021
恭喜田凤彬博士的文章“Impact of Interlayer and Ferroelectric Materials on Charge Trapping during Endurance Fatigue of FeFET with TiN/HfxZr1-xO2/interlayer/Si (MFIS) Gate Structure”发表在IEEE TED杂志上
欢迎新成员加入
27.08.2021
欢迎 贾新培、邵宪周、戴塞飞、廖敏、徐双双、李宋伟6人从国科大回到微电子所，开展研究工作
孙晓清博士的IEEE TED文章发表
15.08.2021
恭喜孙晓清博士的文章“The effect of interface traps at the Si/SiO2 interface on the transient negative capacitance of ferroelectric FETs”发表在IEEE TED杂志上
张元元博士的APL文章发表
13.07.2021
恭喜张元元博士的文章“Thermodynamic driving force of transient negative capacitance of ferroelectric capacitors”发表在APL杂志上